· PRODUCT· 설비개발

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Chemical delivery / recovery unit

CDU / CRU

조인테크놀러지에서 개발하여 공급하는
“Si wafer thin & SiC wafer process” 관련 전문 설비입니다.

Introduction

반도체 plating 설비에서 CDU, CRU는 다양한 chemical을 정밀하고 안전하게 공급 또는 회수하는 역할을 합니다.
Chemical을 저장, 이송, 정량 공급하기 위한 장치들과 이를 정밀하게 제어하기 위한 제어 시스템으로 구성되어 있으며, 반도체 제조 공정의 안정성과 효율성을 높이는 중요한 역할을 합니다.

정확하고 안정적인 chemical 공급, 고순도 유지, 유체 제어 기술이 적용되었습니다.

환경, 안전 기준을 만족하기 위한 각종 장치들과 기술이 적용되어 Wet process, Plating process 등 다양한 장비에 적용 가능 합니다.

Plating chemical (Cu, Ni, Sn, SnAg) delivery system
Ti Etchant chemical delivery system
Acid, alkali and solvent recovery system
Chemical dilution system (slurry supply system)
Chemical mixing system (SC1 supply system)

  • Supply system
    Pump or N2 가압
  • Control
    PLC & touch screen
  • Flow rate
    1 ~ 100 LPM
  • Supply pressure
    0.3 ~ 0.5 Mpa
  • Tank
    Bottle or vessel 중 선택
  • Tank level
    Loadcell (weight) 방식
  • Safety device
    Safety relay, safety valve 적용

Detail view

Chemical delivery unit “CDU”

Chemical recovery unit “CRU”

Inside of the unit (CRU)

System GUI